원리 및 기능
ZEISS GeminiSEM 560은 Schottky type field emission 및 In column beam deceleration 디자인 설계된 Gemini 컬럼이 장착되어 Field free Objective lens 구현으로 저가속 전압에서 stage bias 없이 고분해능 이미지 및 표면 morphology 관찰이 가능하다. 또한, 8.5mm Analytical Working distance 구현하여 EDS,EBSD 시그널 획득이 우수하여 좋은 Mapping 결과를 도출할 수 있다.
기기활용
- Chemical powder morphology 및 Non coating 시료의 정밀 표면 관찰
- Material Channeling Contrast
- Beam damage 최소화하여 이차전지 분리막 등 soft material 관찰
- 자기장시료의 관찰
- 야금분말 및 세라믹 시료의 EBSD 분석
사양
| Resolution | 0.8nm@1kV without Stage bias or monochromator 0.5nm@15kV without Stage bias |
| Accel. Voltage | 0.02kV~30kV |
| Magnification | 1x ~2,000,000x |
| Column | In column beam deceleration type |
| Chamber stage | X,Y axis:130mm, Z axis: 50mm, Tilt:-4° ~70°/ Rotation:360° |
| Detector | ETSE,BSD, In lens SE, in lens BSE |
| Analysis detector | EDS, EBSD EDS: SDDtype 100mm2 |